2024年3月1日，新的硅外延用三氯氢硅国家标准（GB/T 30652-2023）开始实施。在半导体行业中，硅外延技术占据了不可或缺的地位，它通过在硅晶片表面生长一层纯净且结晶完整的硅层来提升器件的性能。而在这一关键过程中，三氯氢硅（HSiCl3）发挥着至关重要的作用。
晨光新材作为起草单位，公司研发负责人梁秋鸿博士作为主要起草人，参与了本次标准的起草，贡献了一份力量。
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江西晨光新材料股份有限公司（股票代码：605399）是一家布局功能性硅烷基础原料，中间体，下游产品研发、生产和销售的特种化学品公司。公司自产基础原料三氯氢硅，并在生产过程中实现了氢气和氯化氢的回收循环利用。这不仅极大提升资源利用率，也避免了环境影响，提高了安全性。
未来我们将继续致力于技术创新，不断提升产品质量，以实际行动支持国家标准的实施，共同推动新材料行业的繁荣发展。
